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蒸鍍沉積系統
蒸鍍系統（Evaporation Deposition System）
儀器概覽
蒸鍍（Evaporation）是一種物理氣相沉積技術（PVD），利用高溫將材料蒸發成氣體，並在真空環境中沉積於基板表面形成薄膜。此技術具有高純度、低污染、製程簡單等優點，常用於金屬電極、光學鍍膜、與半導體製程中。
主要目的與應用
- 半導體製程： 製作晶片導線與電極薄膜，確保高導電性與穩定電子特性。
- 顯示器製造： 蒸鍍金屬電極以提升 OLED 等顯示元件的亮度與影像品質。
- 光學鍍膜： 於鏡片或雷射元件表面形成高反射或防反射膜層，改善光學性能。
- 太陽能電池： 形成導電與吸收層，提升太陽能電池效率與穩定性。
機台原理
- 材料加熱與蒸發： 在高真空環境下，利用電阻加熱舟（W Boat）或電子束（E-beam）加熱材料，使其蒸發成原子或分子氣體。
- 蒸氣傳輸與沉積： 蒸發出的氣體在真空中直線傳輸至上方基板（Substrate），冷凝形成薄膜。
- 薄膜成長控制： 透過控制蒸發速率、基板溫度及真空壓力，可精準掌控膜厚與均勻性。
