亞洲大學團隊於2025年10月23日前往國家儀器中心（國儀中心）新竹園區參訪，由潘正堂主任親自接待，並有多位主管與工程師陪同導覽。此行主要針對原子層沉積（ALD）設備及相關先進製程技術進行交流與觀摩，探討未來合作與技術導入的可能性。

       出席此次參訪的包括(亞洲大學)副教授彭昱銘與(大葉大學)助理教授卓昀劭等人。團隊實地了解國儀中心ALD系統的架構、製程特色與應用方向，並針對設備規格、經費規劃及導入時程等議題進行意見交換。此訪亦為亞洲大學預計於115年度規劃添購ALD設備的重要前期評估，期望藉由此設備的導入，推動校內在半導體與前瞻材料領域的研究發展。

       潘正堂主任表示，國儀中心將持續推動學研單位間的合作與技術交流，並歡迎亞洲大學師生未來參與技術參訪與研究分享活動。雙方亦討論共同舉辦技術研討會與專題課程的可能性，促進產學研資源整合與人才培育合作。

圖：亞洲大學團隊於國家儀器中心新竹園區參訪交流。

       此次參訪不僅深化亞洲大學與國儀中心之間的連結，也為未來先進製程研究及設備合作開啟新的契機，展現亞大在強化科研基礎與推動跨域技術發展上的持續努力。